P+注入和N+注入怎么会是同一层版？……
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Razavi中文版第502页，第四段，用”第二次，用同一块掩模版……“
感觉说得不对，不知各位意见如何?
感觉说得不对，不知各位意见如何?
翻译的问题吧，应该是不同的掩膜
书上是这么描述的：第一次用负性光阻刻出N+注入区，第二次用正性光阻刻出P+注入区。负光阻和正光阻的图形正好reversion一下。但实际上是不同的掩膜。两数据dark和clear正好相反。书上所说的就是可以省一块掩膜版的钱嘛。
工艺中要把掩模版反过来
学习学习！
一次正胶，一次反胶，用同一层版形成互补图形
在我的记忆中，是两块掩膜版
P+和N+刚好可以互补，可以用反板来实现
好东西
可以一块板的，把板子反过来就好啦
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