版图的问题
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版图中NWELL到有源区的距离为什么不一样，比如到P+的有源区和N+的有源区，以及内外包含都不一样。是不是跟什么电位有关?
不同注入，不同掩模版，距离应该也不同吧。
同一种内外之间的距离也不一样?
当然有可能不一样，一个是well里的注入，一个是psub上的注入，你跟design rule较什么汁啊，犯得着么
没明白你所说的同一种内外不同是什么意思。
就是NWELL到它阱内部P+的有源区域到阱外部P+的有源区距离也不一样。
如果想理解这个的话,建议去学习一下器件物理
哦，但是这个距离一个是nwell内的p+注入，一个是p-sub上的p+注入，是不同的。
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