淀积与氧化

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我看到书上氧化层可以通过淀积形成，也可以直接进行氧化工艺得到。
请问这两种工艺有什么区别?
多谢各位！

cvd做出来的氧化层很松散，只是用来做隔离，干氧热生长的是栅氧。既然感兴趣，为何不找本书从头倒尾的看一下，基本知识还是必须掌握的

多谢。有没有什么书可以推荐一下?

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