Monte Carlo 仿真
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Monte Carlo里有三个仿真选项，process only, mismatch only, process & mismatch.因为存在mismatch的话肯定是有process离散的，那这里的mismatch only 怎么理解呢，仿真器实际仿真时是怎么改变每次仿真的参数呢?实际仿真结果还有个怪现象，同时考虑process 和mismatch得到的结果可能会比单独考虑process或者mismatch的结果要小。
我记得是这样的：假设电路中有m个相同的MOS管，monte carlo设置仿真n次，process only是说在同一次的仿真中这m个管子尺寸是一样的，但在n次中符合正态分布；mismatch only是说在同一次的仿真中，这m个管子符合正态分布，但是n次仿真是一样的。process & mismatch就是都正态。
不知道理解的有没有问题，同学习
多谢，但有一点不明白的是，process & mismatch 得到的值会比单独process(mismatch)小。
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