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最近貌似论坛讨论不是很热烈,我来提点新鲜的话题。

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最近貌似论坛讨论不是很热烈,我来提点新鲜的话题。
各位考虑下,如何把Fin-FET(Intel叫Tri-Gate)应用到analog设计中?模型会是怎样的?
貌似BSIM v3.3 不太够用了哦。

不明觉厉



    强烈要求前辈参与讨论。扯扯蛋也行啊

好像0.13以下都不是BSIM了吧?应该是PSP,纯属猜想,求验证

0.13 以下是 bsim 4



    哦哦,是的,我弱爆了。多谢告知。

BSIM V4.6

继续……

话说Fin-FET的栅立起来了,计算w的话还得加上两侧栅的高度,而电场也是立体了,这些和目前设计用的的W/L思路不一致,会不会有新的设计方法或者理论出来呢?

估计用gm/ID方法还是可以的


只需要设计时用有效W (与物理W对应关系不再相同),其它思路应该差别不太大,模型具体参数与平面器件差别可能比较大,很多效应强弱关系不再相同。有效沟道宽度让Pcell去转换就是了。

其实就画版图的人辛苦。



    听前辈这么一说,貌似还是挺容易的样子?



    看到新思开始开发支持Fin-FET的EDA软件了,会不会到时候直接根据电路生成几个单元(类似黑盒),然后画版图就是在外头连连线?

v不明觉厉啊~



   大哥一起来扯扯蛋嘛~



    大哥就不瞎参合啦~你自己走路,把步伐迈大点,就可以实现了。



   独扯扯不如众扯扯~反正是无关紧要的瞎扯,论坛嘛,搞那么严肃干嘛?

原来w的调节的step是近似连续的
现在w的调节step是离散的
现在的device model与传统model已经相去甚远了
其实从28演进到16估计没有想象中那么麻烦
当然还没有玩过16ff工艺,纯属个人猜的



   没关系,开这个话题就是让大家随便猜,说不定有猜中的。

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