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MC仿真与版图匹配

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请教各位大虾:
1 后仿真时可以进行MC(蒙特卡洛)仿真吗?
2 MC仿真本身就是考虑到了工艺统计偏差的情况,那后仿真时,版图匹配的好坏会影响MC仿真结果吗?
谢谢各位了!

当然可以
不过后仿通常极为耗时
MC至少要run 30次才有意义
除非线路不大
否则会仿到天荒地老!
建议还是前仿作MC即可

建议关键小模块用MC后仿,因为前仿时multi和finger的变化以及相同sub-block似乎MC model处理的不好;另外MC model看不见匹配,应为layout pex的时候是不含坐标系参数的,也就是说MC给出的是不考虑匹配的情况,所以似乎(似乎)可以认为匹配后的结果可能比MC结果更好一点。另外smic的MC可能只包含tt corner,tsmc的model做得更全面一点。



    只包含tt corner是什么概念?MC仿真不是一种统计概念么?

1 建议关键小模块用MC后仿,因为前仿时multi和finger的变化以及相同sub-block似乎MC model处理的不好------请问:这句话具体是指什么意思
2 另外MC model看不见匹配,应为layout pex的时候是不含坐标系参数的,也就是说MC给出的是不考虑匹配的情况,所以似乎(似乎)可以认为匹配后的结果可能比MC结果更好一点----------请问:那可不可以理解为不管是前仿还是后仿以及run不run MC,匹配的好坏都不能通过仿真得出来?

不知道还有没有人有其他的思路

继续顶啊

大的设计后仿MC太累了吧……关键的matching和device做下。

    谢谢你的回复!请问:不管是前仿还是后仿以及run不run MC,匹配的好坏都不能通过仿真得出来?

等待高手啊!

对失调要求高的模块做mc



   求高手进一步解答啊!

请问:那可不可以理解为不管是前仿还是后仿以及run不run MC,匹配的好坏都不能通过仿真得出来?

申明:网友回复良莠不齐,仅供参考。如需专业解答,请学习本站推出的微波射频专业培训课程

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