如何由MOS管的IdVd和IdVg特性曲线得到衬底掺杂源漏掺杂等工艺参数
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我现在有实测的单管转移输出曲线数据,想要得到衬底掺杂等工艺参数,请问有什么办法啊,
需要利用什么公式,要用什么软件啊?
希望大家多多指教。
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理论上可以得到,实际上不可能做到。
要想得到,需要满足以下条件,要知道做这个MOS的工艺流程,因为各种工艺流程如热过程都会影响掺杂分布。
而如果能得到process流程,里面已经有掺杂条件了。
所以,这就是一个悖论,不可能得到的。
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